微壓力接近傳感器的快速發(fā)展，用電單晶體的壓型鋼板結(jié)構(gòu)開發(fā)出一種新的傳感器，以及內(nèi)置的前置放大器，放大器通過微弱信號的放大與實現(xiàn)阻抗變換，使傳感器具有小范圍、高靈敏度的特點，抗干擾性好等。這種傳感器已廣泛應用于脈沖、管壁壓力波動等小信號檢測。但同時，它是一個迫切需要測量這種類型的傳感器的性能與一個簡單的和方便的測量裝置。

　　為了解決微壓力接近傳感器的靈敏度和非線性之間的矛盾，使用復合材料梁的結(jié)構(gòu)和平板膜結(jié)構(gòu)。島上的面積不擴大或減少的比例。首先，為了提高靈敏度，應盡量減少窄梁面積的長度和寬度。由于對梁式膜結(jié)構(gòu)的有限元分析和近似分析分析，發(fā)現(xiàn)窄梁的長度和寬度可以明顯增加梁的應力。當中窄梁的長度約為兩側(cè)的窄梁長度的2倍時，該裝置的線性度是適合好的。

　　雖然有一個結(jié)構(gòu)的雙島，但在高過載條件下，硅膜將是第一次爆發(fā)從邊界地區(qū)和角區(qū)的島嶼。這是因為傳統(tǒng)的島狀膜結(jié)構(gòu)是使用傳統(tǒng)的各向異性濕法蝕刻，從背面的硅膜和背面的島嶼。硅膜為晶體表面，邊框和背面為大表面，銳角為54.74度。根據(jù)力學原理，角部區(qū)域內(nèi)存在應力集中效應，當硅膜被壓在前面或背面時，角區(qū)將有極大的應力值。在引入應力分散結(jié)構(gòu)后，將角區(qū)變成了一個具有一定曲率的圓角圓角。

　　在硅膜和邊界的邊界或背島形成一定的曲率的半結(jié)構(gòu)，使用傳統(tǒng)的各向異性濕法蝕刻不能實現(xiàn)。為了這個目的，掩模和非掩模各向異性濕法蝕刻技術(shù)被使用。